六十四 改造光刻机

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投影式光刻机,掩膜版,掩膜版制,工半。

层次立体晶体管架构特殊性,掩膜版并块,层次,分别进曝光,才

块掩膜版切换,原本光刻机够做此杨青光刻机系统,台,做改,适应特别加工需求。

幸亏杨青加工业部分零部件,哪怕进口高精度伺服电机,间内货,让杨青改进工顺利

仅仅光刻机改进工持续间,晚秋,直持续冰冷寒冬,才算彻底结束。

杨青计算机,光刻机类工业文明高结晶,汇集机械,电,光软件方果,尽管眼使DUV,阿斯麦果EUV,它进改进,仅需跨越各业,各门类知识水平,强悍力。

知识结构,仅仅,杨青身体掌控已经极点,,力气块钢板,掰几形状

力,杨青绝白十,机器力甚至比杨青强。

,与其机器厉害,嫒厉害。

候,杨青费尽机研究造肌肉,价值,因造肌肉特点电流刺激产收缩。

芯片电流控制力,显伺服电机运控制,因伺服电机转惯性,反应机器变形。

变形普通高精度加工工瑕疵。

厉害依托机器,才表

跟白灵白珊它,尽管白灵白珊它控制够胜任普通光刻机改进,方夜谭

期间完银互联银离镀层技术,跟铜互联方式相差几,气相沉积候,药剂,需替换,容易替换技术

杨青终完工光刻机口气感觉。

改进光刻机,体积足足扩物,偏偏磨绣花针修配安装,始终让轻松

杨青费力气改造光刻机,仅仅九十纳米制程芯片,实际杨青设计芯片,已经定型九十纳米光刻机制程,立刻二十八纳米程度。

已经透镜,经嫒精磨够达细线宽

理论透镜,经次曝光加工7纳米芯片,杨青兴趣并产企业,更强芯片需求,并且7纳米力,芯片系统适配,未必竞争

光刻机已经改造完毕批芯片,验证改造效果。

略试张六英寸硅晶圆,光刻芯片,切割封装功,芯片预计范围内。

产,验证改进光刻机,它产效率本。

本太高,已经比买进芯片高,哪怕再强,封存,等升级换代再重新启

新购进千片六英寸硅晶圆被放原料箱内,随输送带被传送进光刻机始抽气,保持相真空状态,硅晶圆被放,镀膜旋涂,干燥,掩膜版升,激光头始工

尽管肉眼激光光线,硅晶圆,光刻胶软化变形,激光

光刻机系统已经被嫒全盘接管,光刻效率已经原先十倍,工极快速度,激光头透镜进,很快刻完块晶圆,它送步骤,继续块晶圆。

步骤暗箱杨青,刻蚀,离注入等程,等口处见候,已经变块块封装完毕芯片。

块六英寸晶圆切割30片完整芯片。

二十GB内存关系,使芯片积,达580平方毫米,内存,更像CPU缓存,跟CPU频工,直接读取数据,内存跟CPU频,外部线交流,尽管线速度越快,远比CPU缓存。

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并且芯片内部,CPUGPU,跟数芯片设定体式内存架构,让芯片性提升。

杨青拿块芯片,封装金属盖板触点,它放块临赶工打造主板,掀跟牙膏厂类似设计CPU插槽,CPU放进,压拉杆,芯片牢牢固定

实际牙膏厂CPU插槽,它推新品,直接被更换掉主板厂存货,因此被杨青直接买

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