三百九十四章 与世界敌
《半导体业革新产品》
《阿斯麦公司率先研EUV光刻机》
《芯片工艺制程或将提升十倍》
《芯片工艺已将达物理极限》
依‘魔力’‘外星物’热点候，阿斯麦EUV光刻机背群资本运，立刻登全球热点。
本正常，件商品更新迭代迹循，或者技术储备。
比明明EUV光刻机重新新赛，DUV光刻机关系，平世界硬等芯片达DUV光刻机极限7nm瓶颈才拿。
，因安布雷拉DUV光刻机带压力，工智及量计算+超算模式景摆。
重新争夺尖端利润，更景。
今顶级芯片工艺制程14nm候，阿斯麦公司端EUV光刻机。
且因安布雷拉镜片领域影响加持，其各方技术带竞争感。
阿斯麦次提拿EUV光刻机比原本计划各项技术参数，更加优秀！
某积电、四星、英特尔等晶圆厂已经货，并始组装调试！
显阿斯麦EUV光刻机并刚刚才造，已经始供货让加班加点完组装才始官宣。
步位，减少给竞争反应间！
EUV光刻机比DUV，重量180吨，甚至连运输需专门车辆，组装相麻烦。
果提已经合晶圆厂工员进培训，头始话安装调试半相正常。
，安布雷拉边压力，管阿斯麦各晶圆厂拿潜力，加班加点全联。
各路资本推波助澜炒，配合次安布雷拉新增项制裁，让很缓神。
次，恐怕针安布雷拉！
“笔！”
“觉世界公司已经很冤，比针安布雷拉才怕！”
“世界公司顺带被波及，主目标放安布雷拉，实身利益太。”
“阿斯麦阴险啊，直捂放，差锤定音候。”
“……”
伴随网络讨论酵，等热度达峰值候，阿斯麦边进直播节目。
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某积电、四星、英特尔等诸半导体工程师，芯片设计厂、封装厂等等专业士。
站处厂房外，脸带笑容。
直播镜头，由阿斯麦工程师率先口进介绍
“恐怕很，直接放弃原本熟DUV技术，直接头始研EUV光刻机。”
边，围绕厂房边走。
“或许始，EUV光刻机，因虽理论达DUV光刻机十倍分辨率，实太难，难度太，需突破瓶颈太，技术需求极高，克服难点数胜数。”
边边打环，形三维全息投影简单介绍
“知光刻机本质曝光，DUV光刻机，找应镜片让深紫外线通，特别安布雷拉技术产新镜片，更加强点，安布雷拉光刻机利点弯超车，使浸润法况超效率！”
阿斯麦贬低安布雷拉，甚至旁边吹嘘。
因将安布雷拉强体，才明更强！
强，输，输！
“，点EUV光刻机却，使13.5nm波长极紫外线电离力极强，镜头适合精度让高光束通，唯选择办法，反射！”
边，全息图像进改变，讲解概原理。
断利镜片反射完极紫外线汇聚。
共完十几次反射才达曝光求！
“反射镜片精度需求极高，感谢卡尔蔡司公司方付。”
完旁边卡尔蔡司工程师做请势。
卡尔蔡司公司工程师顺势站礼貌
“利安布雷拉技术涂层，，精度方，点信……”
随，阿斯麦代表介绍EUV光源。
“，极紫外线需通十几次反射才达效果，因极紫外线电离消耗，每次反射损失概30%左右量，终够效利光概2%，因此，需光源足够且稳定输功率，克服问题Cymer公司花费整整十间攻克，Cymer公司三已经被公司完收购……”
边，边继续外放全息画，连原理，高激光断轰击液态金属滴，难度精确度提供数据让头皮麻。
制造难，保持稳定持久，足够输功率光源，确保每次撞击极精准，且频率足够高。
断轰击滴落金属液滴，各方稍微点失误完全。
再随断介绍，观众明白台机器怎组合怪物。
漂亮光源技术，霓虹光源转换设备，高卢阀件，普鲁士镜头，瑞典轴承，需极精密，缺，连安装极精细避周边环境轻微震。
甚至连运输光刻机车辆，某积电专利技术！
直播，很观众眼明白问题。
EUV光刻机绝两技术问题，汇聚全球顶级科技。
顶级巨头汇聚，压安布雷拉公司。
直接靠技术代差，口气完碾压方式！
本身，秀肌肉表！
今，主流芯片工艺才14nm。
EUV光刻机理论极限却达硅基芯片极限，达1nm！
果解决隧穿问题，甚至更低！
，符合商业规律利润。
慢慢更新迭代进收割。
办法，安布雷拉边杀太强，DUV光刻机性太，且芯片简直处黑盒状态完全摸清。
况口气拿将直接打倒。
虽芯片方透支极限，却量计算+超算及工智方补回！
安布雷拉工智再强，需依托硬件！
，阿斯麦打明牌。
，拥全球各强技术。
“，EUV光刻机，虽才各晶圆厂完安装调试，何将工艺提升极限各晶圆厂段，工具歹已经制完，已经断试错吸取经验条件，断向，断进……
“安布雷拉公司很强，非常强，强让叹观止，展示全息技术，镜片强化涂层，工智结构等等，奠定安布雷拉强基础。
“，更强……”
随镜头拉远，将阿斯麦诸参与EUV零部件设计公司，将EDA三厂，将芯片设计厂，将晶原厂代表，全框。
展巨底气与实力。
做直播，向宣告。
，掌握全球顶级技术。
技术沉淀，短间追赶！
或许短期突破某瓶颈，法突破全部瓶颈！
追赶候，继续，永远走，建诸壁垒堵住路，让始终保持差距！
让始终占据利润！
，与世界敌……
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