447章 门突被敲响
，白老突什，紧接问：
“计划先马实。既徐佑今与SPY先交流技术问题，证明脑，受损严重。等再阵，确定消息，再实施计划迟。”
“，先。根据实验结果，病变逆，且直朝继续恶化方向展。SPY先继续提供信息。果徐佑连SPY先见话，真明，已经思考力。”
“嗯，准备万全。除徐佑外，观察身边表，特别朋友。”
“明白，持续关注。”
……
算经量实验室。
徐佑正利线脑机功，与算经量计算机，构连接通。
黄思白回，加入伏龙科技始，已经公司贡献十余项EUV光刻机相关技术。
技术，包括EUV光刻机激光光源、工台、镜头等等方，每项果，实打实关键技术，产EUV光刻机，非常重进展。
，因台光刻机涉及元件实太，且需诸产业链企业共配合，才量产。
短间内，法马做台真正EUV光刻机。
身领域科研专徐佑，明白理。
果，够让算经工智掌握知识，局势完全。
通线脑机功，徐佑将知识全部传输给算经，并让算经理解光刻机义。
况，徐佑继续启脑彷真模拟技，利算经强算力，脑海断模拟光刻机运转程，各元件细节进优化。
此，台光刻机万元件，徐佑脑清晰见。
“黄思白跟讲技术，确实问题。”
通严谨模拟，徐佑确定黄思白技术真实性。
取徐佑信任，黄思白并徐佑任何隐瞒，解东西，五十给徐佑。
黄思白讲述，徐佑够听，技术并真正由黄思白研，更像黄思白某渠。
徐佑，信息已经足够。
深度思考，徐佑根据黄思白提供信息，反推更信息。
经断模拟、计算、推演，徐佑距离整套完善EUV光刻机技术，已经越越近。
包括硅片表清洗烘干、涂底、旋转光刻胶、软烘、准曝光、烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等等工序，断徐佑脑海重演。
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知经历少次推演，徐佑根据脑模拟EUV光刻机，功产合格高精度芯片。
“……EUV光源技术，很解决。”
EUV光刻机，EUV光源疑核设备。
让光刻机高效工，需足够亮EUV光源才。
EUV光源方，黄思白提供技术，并彻底解决问题。
“等……极紫外辐射光谱，似乎继续优化空间！”
，徐佑突注。
正常激光佳聚焦位置，入射激光量等离体间缺乏效耦合。
其原因，因佳聚焦位置处，聚焦光斑尺寸较，激光聚焦锥角较，等离体吸收量局限轴附近，影响等离体激光量吸收。
换句话，谓“激光佳聚焦位置”，很并EUV光谱强度强位置。
“果调整聚焦光斑尺寸……况。”
按照徐佑理论，聚焦光斑尺寸略微增，激光聚焦锥角跟增。
，激光量效分布整等离体沿，等离体效吸收激光量，减少量损失。
，聚焦光斑尺寸增，否则话，适其反效果。
，虽徐佑推论，仅仅依靠算力，很难限间内，找佳聚焦光斑尺寸。
，徐佑依靠算经强算力，提高计算速度。
经次计算，徐佑算找EUV光谱强度强位置。
更换新EUV光源装置，徐佑重新进光刻机工流程推演。
正徐佑料，光源亮度增加，光刻机工效率，跟提高少。
“果够按照效率工，台EUV光刻机，真投入使！”
确定光刻机设计方桉，徐佑仍需结各部件具体工艺。
因，制造像光刻机，此精密仪器。
仅仅依靠设计图，远远够。
果具体工艺，即使拿设计图，并代表光刻机整制造。
徐佑顾休息，继续算经，进接工。
……
徐佑实验室，林诗正焦急向崔颖询问什。
“崔老师，徐老师今怎实验室？需需啊？”
“必，徐老师近劳累，需休整段间，暂先实验室。林诗，算徐老师，做带头，继续几项目研究工。”
“，崔老师，知。”
林诗隐约担徐佑，既崔颖，林诗再问什。
徐佑候，林诗更应该挑梁，继续徐佑未完科研项目。
正，实验室门突被敲响。