325章 纳米尺度模拟

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“胡书城?快!”

物竞省队,老胡嘛。房间间,老胡房间号。因……”

徐佑将原因告诉陆知瑶,陆知瑶听完,竟脸兴奋

老胡话,尴尬啊。”

儿,早早点每次保证,已经完卫。”

思啊。”陆知瑶撇撇嘴。

办法,集训保证更状态,毒气影响嘛。”

徐佑番爆料,陆知瑶明显

理疏导工效果,徐佑继续

“其实高二候,非常普通相信,瑶瑶世界级根本绪,优秀。”

“徐佑,。”

陆知瑶知,徐佑安慰分。

很让舒服。

候,让

陆知瑶真感觉非常知足。

……

偶尔,徐佑继续科研工

罗文坤帮助,徐佑关EDA内部资料,尖端知识进习。

徐佑十几科研项目。

徐佑压力,反徐佑满满力。

深度习状态加持,徐佑每数倍间。

让徐佑足够精力,兼顾科研项目。

项目,徐佑更喜欢项目共感觉。

项目进入瓶颈状态,徐佑项目放放,转换精力先放项目

转换,往往让徐佑更加思维。

再回项目困难,迎刃

让伏龙科技机早布。

徐佑将很业余间,EDA工具研究

习,徐佑完整套新EDA工具,需难度。

软件已。

,却包含系统设计与彷真,电路设计与彷真,印制电路板设计与校验,集电路版图设计、验证测试,数字逻辑电路设计,模拟电路设计等等项技术。

技术外,EDA工具靠性,至关重

仅仅套软件保证芯片设计公司、晶圆厂等方,够达高度信任与合

芯片精度求非常高,EDA工具具备高度靠性,才保证制造芯片,够达良率

此,徐佑抽部分间,罗文坤晶圆厂进考察,并与伏龙科技芯片设计工程师进交流。

理论经验断积累,徐佑终已经具备款EDA工具力。

其实话,研EDA工具难点,理论器件模型,实际工艺结果相互验证。

EDA工具,完彷真。

芯片工艺制程,已经达nm级。

尺度,完电进彷真,非常困难

足够理论经验支持,徐佑相信,脑彷真模拟,完微观状态彷真。

准备,徐佑调整状态,准备始进脑彷真模拟。

此,徐佑特崔颖交代,非常重话,打扰

徐佑陆知瑶解释房间候,进入状态

陆知瑶早,徐佑陷入思议状态

陆知瑶给徐佑留非常足够空间,异议

吃完早饭,解决问题,徐佑打系统界默念

脑彷真模拟!”

随即,徐佑脑海限体积空间。

徐佑集力,空间,构造块芯片,设计、制备流程。

硅晶圆,芯片封测,几十步骤,徐佑脑海

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渐渐,徐佑越完善细节,让程,与真实程别二致。

件非常困难,因涉及细节,实

即使脑力强徐佑,脑彷真模拟状态辅助反复模拟遍,才让细节完善。

状态正佳,徐佑将视界

,徐佑脑海空间,已经达纳米尺度。

状态,徐佑甚至见芯片几纳米晶体管。

徐佑努力,让脑保持住状态。

正式获脑彷真模拟候。

徐佑根本难高精度模拟。

即使强类似状态,度,随脑崩溃危险。

,徐佑算已经达极限,脑并陷入超负荷状态

关键

徐佑需微观尺度,重芯片设计、制备几十步骤。

,徐佑才完整程彷真,再翻译电脑程序,研制套新EDA工具。

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