四百十三章 光刻机
套产线制十二英寸晶圆，直径三十厘米，万安公司电脑已经八英寸芯片，尺寸将近倍。
代，芯片倍代表电脑更，科技更高，三十结果正反，晶圆越科技含量才越高。
原因嘛，很简单，八十代芯片功实咋，万安公司WPS文字处理系统算全世界比较强文字处理程序，功刘琅眼连“垃圾”算，七八电脑芯片性比它强知少，更互联网代芯片，候芯片元器件纳米衡量，三十苹果设计机芯片元器件达几纳米，再产量效应。
代芯片电元件数量差，两千，少七八百，基础追求谁更晶圆将元器件放。
三十，元器件已经进入纳米级别，追求谁刻录更元器件，晶圆才越越，更芯片才顶尖技术体。
刘琅次晶圆产线内部构造，很设备解。
王海军研究套产线，虽复杂设备，比明书查找数资料，设备解已经内。
半导体芯片产主分设计、制造封测三环节，芯片设计主根据芯片设计目进逻辑设计规则制定，万贺团队干活芯片设计。
芯片制造包括根据设计图制掩模供续制造步骤使，呈贤主负责项工。
江南厂产线主制造，程句话，芯片电路图设计掩模转移至硅片，并实预定芯片功。
程何实呢？包括几程，光刻、刻蚀、薄膜沉积、化机械研磨等步骤。
“刘琅，，套产线内，科技含量高台设备！”
王海军指台密封仪器。
“刻纹机吧？”
周明旁缓缓。
“刻纹机？，周教授，咱内叫法，外应该叫做光刻机！”
王海军回答。
“光刻机？”
刘琅微微，知仪器，妻洪玉解，光刻机被称类历史明精密仪器，三十，世界制造高尖端光刻机工厂荷兰公司，每产十几台，每台售价超亿金，岛尼康制造仪器，精确度比荷兰公司，即便，制造光刻机早被世界几芯片巨头提几预定，买先进光刻机等其公司买完才，间差西方达压制办法，怕先进技术。
光刻机牛？
洪玉曾“花痴”向刘琅介绍先进光刻机性！
比光刻机光线量、破坏性极高，制程零件、材料，挑战类工艺极限，甚至因空气分干扰影响光线，产程真空环境，且，温湿度压力变化影响焦，机器内部温度变化控制千分五度，合适冷却方法，精准测温传感器，更重，需精确度极高镜头光源。
顶级镜头光源，极致机械精度，白搭。光刻机两步运工件台，载底片，载胶片，两者需始终步，误差2纳米，两工台由静，加速度跟导弹射差，此且，机械精确误差仅兆分秒
刘琅记洪玉举例，步性相两架飞机飞降落，始终齐头并进。架飞机伸刀，另架飞机米粒刻字，刻坏。
光刻机牛牛？牛，即便刘琅门外汉觉仪器类怎给它造呢？
类给造，且未断展，直至量计算机诞………。
洪玉三十光刻机，光刻机与“孙辈”相提并论，台光刻机制程四微米，未则十几纳米，两者相差几百倍，机械形容两者差距，果光刻机比产扶拖拉机机，未光刻机航飞机机。
“应该制达制程4微米级别刻纹机吧，技术真先进，比咱强很！”
周明目转睛感叹。
周明曾经参加二十卫星研制，半导体展非常解。
光刻机硅片涂感光胶，集电路设计电路胶片遮盖进曝光，清除感光部分，露硅片进加工型，简单，光进“雕刻”，因电元件十几纳米级别，世界哪此细“刻刀”元件雕刻晶圆？
【话，目朗读听书app，野果阅读， 安装新版。】
别光刻机此高端，却早研制仪器。
五十代末期，光刻机已经被明，并且随应实践，六十代初期，随量外半导体专回归，将半导体技术列重点展科目。
代，半导体领域内谓才济济，名气黄坤、谢喜德、周明等科外回专业才，带领始研究光刻技术，研制锗合金三极管磁膜储存器。
六十代初期，提氧化物半导体效应晶体，并且研制千元件密集电路板，世界二十英寸集电路。
期沿古老传统照相术显微镜进缩曝光，采工光刻工艺，坐标值加喷黑铜版纸加术刀方式，精度达零点几毫米，代集电路足够。
六十代期，终制造批接触式光刻机，项技术已经处世界流列。
七十，因规模集电路产业蓬勃展，光刻技术终迎爆，进入八微米工艺代，投影光刻机等关键工艺设备技术，并七十代期建立世界条十二英寸集电路产线，众套四微米制程工艺。