百零四章 传统段
百零四章
正谓,数理化分。
顾律数物理双料博士,理由,化够差哪。
纳米二氧化铈粉末制备,非常简单。
首先,称取定量ce(no3)3-6h2o 六亚甲基四胺,配置1:5混合液。
二步,混合液置75摄氏度恒温水箱水浴保温半。
三步,室温环境陈化,离法分离沉淀。
步,将沉淀洗涤置真空干燥箱,80摄氏度烘干。
,经四步,纳米二氧化铈超细粉体。
二氧化铈粉体呈球形,径粒分布较均匀,径粒约10纳米。
更重,二氧化铈质较柔软,抛光磨料再适合。
穿戴白色实验服,戴套口罩,顾律条紊始操。
将近,顾律提蓝色塑料瓶,走房间。
“顾先,怎?”直门外等候林经理走问。
“切顺利。”顾律摘口罩,笑呵呵塑料瓶递给张经理,“实验服换,再块楼车间试试效果。”
…………
几分钟,顾律张经理两再次走进车间。
黄师傅拿块硅晶片板,脸苦笑走,“顾先,次精度测试相,表粗糙度1纳米。”
顾律接块硅晶片,放翻转仔细,指感受触感,点点头,“应该抛光液原因,正二氧化铈抛光液已经制备,再机试吧。”
“次,结果肯定相。”顾律嘴角扬,语气带比信。
抛光机夹持住硅晶片,接放入纳米二氧化铈粉末抛光液,,按启按钮。
机器始运转。
顾律抱胳膊,双眼紧盯仪器。
,脑海停回忆普林斯顿图书馆,关方内容。
单硅晶片化机械抛光程,主存化腐蚀机械磨削。
材料除,首先源化腐蚀。方,抛光程,硅片表局部接触点产高温高压,导致系列复杂摩擦化反应。
纳米二氧化铈抛光液,其具较高碱性组分较柔软纳米磨料颗粒。
两者,使硅片表形腐蚀软质层,效减弱磨料硅片基体刻划,提高抛光效率抛光表质量,相应,提高抛光硅晶片精度。
…………
半间,晃眼。
机器硅晶片摩擦声音逐渐减,直消失。
设备停,张经理黄师傅齐齐目光向顾律。
顾律笑笑,“拿吧。”
黄师傅翼翼将通使二氧化铈抛光液制硅晶片取。
“什设备?”顾律扫视眼,边并显微镜类设备。
“楼台原力显微镜。”张经理笑口。
原力显微镜?
顾律知,玩似乎贵很。
再次回栋五层楼,台原力显微镜楼,倒省爬楼功夫。
走进栋十几平房间,顾律眼张经理口台原力显微镜。
“米di公司产mutimode spm版原力显微镜?”实验室待段间顾律,眼认。
“买?”顾律扭头向张经理。
据知,台显微镜便宜,市场价,概二三十万元!
算部分高校实验室,买台设备。
张经理苦笑摇摇头,“租。”
顾律:“……”
吧,公司连买二十万抛光机设备疼,让买台二十万显微镜几乎。
租话……似乎便宜啊!
顾律凑近显微镜眼。
“残次品。”未等顾律什,张经理主问顾律解释,“台淘汰,几百块钱,很便宜,租。”
顾律:“……”
真毫羞愧直接承认呢。
张经理似乎并承认公司穷实。
“咳咳。”顾律尴尬咳嗽,“抓紧间数据吧。”
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“顾先,,。”黄师傅双捧块硅晶片。
顾律戴套,搓搓,“吧。”
原力显微镜,回顾律已经久摸。
容易机,顾律蛮瘾。
顾律拉椅,脸带淡淡期待坐。
打光源,翼翼显微镜移。
,顾律很快悔。
怪张经理台显微镜残次品。
特实太坑啊!
顾律边移探针,显示器边,足足卡将近三十秒,才弹数据。
移,卡三十秒,移,卡三十秒。
三十秒,顾律闪闪显示器眼瞪眼。
光调试设备,顾律十分钟。
“顾先,台显示器点太灵敏,,候,采传统暴力段。”黄师傅旁讪笑,走,右掌,猛拍显示器。
砰!
沉闷声音响,显示器画模糊,瞬间浮新数据。
顾律:“……”
方式,确实够传统!
显示器卡顿怎办,半欠揍,拍啦!
,稍显闭塞房间,副顾律猛拍显示器画。
显示器折腾半,屏幕终显示块硅晶片数据。
ra=0.089,rms=0.113.
1微米*1微米范围内,微观表粗糙度,降低惊0.089纳米。
比测低值1.06纳米,足足降低12倍!
…………
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