百零四章 传统

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百零四章

谓,数理化

顾律物理双料博士,理由,化够差

纳米二氧化铈粉末制备,非常简单。

首先,称取定量ce(no3)3-6h2o 六亚甲基四胺,配置1:5混合液。

二步,混合液置75摄氏度恒温水箱水浴保温半

三步,室温环境陈化,法分离沉淀。

步,将沉淀洗涤真空干燥箱80摄氏度烘干。

,经四步纳米二氧化铈超细粉体。

二氧化铈粉体呈球形,径粒分布较均匀,径粒约10纳米。

更重,二氧化铈质柔软,抛光磨料再适合

穿戴白色实验服,戴套口罩,顾律始操

将近,顾律提蓝色塑料瓶,走房间。

“顾先,怎?”门外等候林经理走

切顺利。”顾律摘口罩,笑呵呵塑料瓶递给张经理,“实验服换车间试试效果。”

…………

几分钟,顾律张经理两再次走进车间。

黄师傅拿块硅晶片板,脸苦笑,“顾先精度测试,表粗糙度1纳米。”

顾律接块硅晶片,放翻转仔细指感受触感,点点头,“应该抛光液原因,正二氧化铈抛光液已经制备,再机试吧。”

次,结果肯定。”顾律嘴角扬,语气信。

抛光机夹持住硅晶片,接放入纳米二氧化铈粉末抛光液,,按按钮。

机器始运转。

顾律抱胳膊,双眼紧盯仪器。

,脑海停回忆普林斯顿图书馆内容。

单硅晶片机械抛光腐蚀机械磨削

材料除,首先源腐蚀抛光,硅片表局部接触点产高温高压,导致系列复杂摩擦化反应。

纳米二氧化铈抛光液,其具较高碱性组分较柔软纳米磨料颗粒。

两者,使硅片表腐蚀软质层,减弱磨料硅片基体刻划,提高抛光效率抛光表质量,相应,提高抛光硅晶片精度。

…………

间,晃眼

机器硅晶片摩擦声音逐渐减,直消失。

设备停,张经理黄师傅齐齐目光向顾律。

顾律笑笑,“拿吧。”

黄师傅翼翼将通使二氧化铈抛光液制硅晶片取

设备?”顾律扫视眼,边并显微镜设备。

“楼台原力显微镜。”张经理笑口。

力显微镜?

顾律知似乎贵很。

再次回栋五层楼,台原力显微镜楼,倒爬楼功夫。

走进栋十几平房间,顾律张经理口台原力显微镜。

“米di公司产mutimode spm版原力显微镜?”实验室待顾律,

?”顾律扭头向张经理。

知,台显微镜便宜,市场价,二三十万元!

部分高校实验室,台设备。

张经理苦笑摇摇头,“租。”

顾律:“……”

吧,公司连买二十抛光机设备,让台二十显微镜几乎

话……似乎便宜啊!

顾律凑近显微镜眼。

残次品。”未等顾律,张经理主问顾律解释,“淘汰,几百块钱,很便宜,。”

顾律:“……”

羞愧直接承认呢。

张经理似乎并承认公司实。

“咳咳。”顾律尴尬咳嗽,“抓紧数据吧。”

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“顾先。”黄师傅双块硅晶片。

顾律戴套,搓搓,“吧。”

力显微镜,回顾律已经

容易,顾律

顾律拉,脸淡淡期待坐

光源,翼翼显微镜移

,顾律很快

张经理台显微镜残次品。

太坑啊!

顾律边移探针,显示器边,足足卡将近三十秒,才弹数据。

,卡三十秒,移,卡三十秒。

三十秒,顾律显示器眼瞪眼。

调试设备,顾律分钟。

“顾先台显示器太灵敏,候,传统暴力段。”黄师傅旁讪笑,右掌,猛显示器

砰!

沉闷声音响,显示器画模糊,瞬间浮数据。

顾律:“……”

方式,确实够传统!

显示器卡顿怎办,欠揍,拍啦!

稍显闭塞房间副顾律猛拍显示器

显示器折腾,屏幕显示块硅晶片数据。

ra=0.089,rms=0.113.

1微米*1微米范围内,微观表粗糙度,降低0.089纳米。

低值1.06纳米,足足降低12倍!

…………

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